連續(xù)污染物排放監(jiān)測系統(tǒng)CEMS自上世紀(jì)八十年代應(yīng)用于國內(nèi)的排放監(jiān)測以來，在國內(nèi)逐漸建立起對(duì)污染物的排放監(jiān)測網(wǎng)絡(luò)，系統(tǒng)安裝總數(shù)也接近兩萬套。其中多數(shù)采用了直接抽取式取樣加紅外氣體分析的方法。隨著*對(duì)污染源控制的加強(qiáng)，實(shí)際排放濃度逐年降低，這對(duì)紅外煙氣分析儀器的適用性提出了更高的要求。尤其是在高濕低濃度條件下，對(duì)紅外氣體分析儀的測試精度、分辨率、抗干擾性提出了更高的要求。

紅外煙氣分析儀受水分干擾的消除方法

由于煙氣排放中的水含量是影響二氧化硫和氮氧化物測定的主要干擾物（，水分干擾直接影響了儀器的測量精度。這也是為什么部分紅外氣體分析儀在實(shí)驗(yàn)室條件下使用標(biāo)準(zhǔn)氣檢定時(shí)合格，在CEMS現(xiàn)場測試卻達(dá)不到要求的原因。

通常CEMS系統(tǒng)取樣中采取冷干法脫除水分，以防止水分冷凝和水分干擾，但由于排放工況的變化和冷凝效率的原因，冷凝器的出口露點(diǎn)往往存在波動(dòng)。在高濕低濃度條件下，水分的干擾往往超過了儀器本身的測量誤差，干擾誤差尤為明顯。

消除水分干擾誤差的方法通常兩種：

采用脫水裝置；

設(shè)置水分傳感器并進(jìn)行軟件補(bǔ)償。

采用脫水裝置的方法有采用高效干燥劑如無水高氯酸鎂，或者采用NAFION膜式干燥管。其主要問題在于需要經(jīng)常更換，人為增加了運(yùn)行維護(hù)成本。儀器生產(chǎn)廠家也有可能在檢定時(shí)使用脫水裝置，但是在運(yùn)行時(shí)為減少運(yùn)行費(fèi)用不采用該裝置，造成實(shí)際運(yùn)行中的性能改變，導(dǎo)致CEMS監(jiān)測數(shù)據(jù)不確定度增加。 采用水分傳感器軟件補(bǔ)償?shù)姆椒ㄒ话阒恍拚泓c(diǎn)的水分干擾，且低端的分辨率較低。對(duì)于同時(shí)含水和含SO2,NO的氣體的修正精度很差。

此外對(duì)于NO分析儀，由于在相同的氣室長度下，NO的分辨率低于H2O的分辨率，采用水分傳感器修正的方法對(duì)NO會(huì)造成很大的誤差。 那么如何真正有效降低水分對(duì)紅外分析儀測量的影響呢？紅外煙氣分析儀在傳統(tǒng)微流紅外傳感器的基礎(chǔ)上，增加了調(diào)水機(jī)構(gòu)。它是通過將不同溫度下的飽和空氣依次通入紅外傳感器，通過調(diào)節(jié)調(diào)水機(jī)構(gòu)，使得含有非冷凝水的氣體與N2的信號(hào)一致。同時(shí)通過硬件調(diào)節(jié)及線性修正，來消除H2O（氣）對(duì)SO2、NOx的干擾。進(jìn)一步實(shí)驗(yàn)結(jié)果還表明，通過該方法調(diào)節(jié)后的傳感器可以滿足各種水分含量條件下的水分干擾消除，干擾的程度可控制在5ppm以內(nèi)。

低量程紅外煙氣分析儀分辨率的檢定 紅外測量原理是基于郎伯比爾定律，即通過吸收光強(qiáng)的變化測定氣體濃度。當(dāng)氣體濃度較小時(shí)，光強(qiáng)變化也小，若傳感器分辨率不夠，*無法響應(yīng)濃度的變化。 很多儀器為提高零點(diǎn)穩(wěn)定性，會(huì)采用不同的算法，以保證減小零點(diǎn)的波動(dòng)；還有如前所述，為了補(bǔ)償水分的干擾影響，也會(huì)采用零點(diǎn)補(bǔ)償方式。這樣的直接結(jié)果*是零點(diǎn)附近儀器沒有反應(yīng)。 實(shí)際應(yīng)用中低量程儀器的***大量程要求不高于200ppm，為保證測量可靠性，實(shí)際的分辨率應(yīng)不大于1ppm。 檢定時(shí)可采用10ppm的標(biāo)準(zhǔn)氣體（SO2,NO），利用氣體分割器（配氣儀）將濃度控制在5ppm，通入儀器內(nèi)，讀取儀器的測量結(jié)果A，此后利用配氣儀將濃度控制在4.9ppm，讀取儀器的讀數(shù)B,連續(xù)多次（3次以上）測量得到A,B的平均值，兩平均值的差*是儀器實(shí)際的分辨率。 只有解決水分干擾和分辨率的問題，煙氣分析儀才能真正滿足高濕低濃度的測量要求，真正有效實(shí)現(xiàn)監(jiān)控污染物排放，為減排提供切實(shí)準(zhǔn)確的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。 在CEMS煙氣分析儀使用過程中紅外線分析儀必須去除水分的影響，所以在預(yù)處理過程中一般雙路冷凝器比較保險(xiǎn)，還有弱酸性液體對(duì)分析儀的影響也要考慮。